Kosmetik Berbahaya Yang Harus Dihindari Ibu Hamil

bahan kimia untuk ibu hamil

bahan kimia untuk ibu hamil

Saat ibu sedang hamil tentu ibu harus selalu berhati-hati dengan
aneka macam bahan kosmetik yang mengandung bahan kimia berbahaya. Tentu wanita juga ingin terlihat cantik dan menarik meskipun sedang hamil, emang itu bukan larangan tetapi anda juga harus teliti dalam memilih kosmetik yang aman dan tidak membawa dampak buruk untuk janin anda.

Inilah beberapa kosmetik berbahaya untuk ibu hamil yang harus dihindari ketika memilih kosmetik:

1. Retionid
Bahan kimia ini sangat berbahaya bagi janin karena dapat membuat
janin menjadi cacat. Biasanya terdapat pada krim anti jerawat.

2. Merkuri
Bahan kimia ini sangat menghebohkan karena sejumlah besar terdapat pada kosmetik di pasaran. Tidak hanya dilarang bagi ibu hamil tapi bagi semua penggunanya karena mengakibatkan kerusakan ginjal dan hati bila digunkan terus menerus.

3. BHA
BHA atau salicylic dapat menimbulkan dampak negatif pada calon bayi meskipun masih tergolong aman.

4. Hidoquinone
Sama seperti merkuri dapat menimbulkan dampak serius pada organ baik wanita hamil ataupun tidak. Efek sampingnya munculnya noda- noda gelap pada wajah.

5.Benzoil Peroxyde
Meskipun belum diketahui pasti risiko yang dapat ditimbulkan namun sebaiknya ibu hamil menghindarinya.

6. Rhodamin
Karena bahan kimia ini merupakan pewarna tekstil, jika masuk dalam tubuh dalam jumlah banyak maka bisa timbul penyakit kanker kulit atau kecacatan janin pada ibu hamil.

Selain menghindari kosmetik yang berbahaya untuk ibu hamil,
sebaliknya menghindari perawatan kecantikan berupa perawatan rambut dengan bahan kimia seperti pelurusan, pengeritingan, atau
pengecatan rambut. Karena dapat menimbulkan efek negatif pada calon bayi. Yang terakhir hindari pula pengecatan kuku, karena base coat, top coat dan asetonnya bisa terhirup dan membahayakan janin anda.

Sekian artikel ini semoga bermanfaat untuk menjaga kesehatan bayi
anda dan kesehatan anda sendiri.

 

Leave a Reply

Your email address will not be published. Required fields are marked *